摘要标题：
低强度670 nm激光照射对人内皮细胞增殖的直接刺激作用。
摘要来源：Br J Dermatol。 2003 年 2 月；148(2):334-6。 PMID：12588388
摘要作者：A Schindl、H Merwald、L Schindl、C Kaun、J Wojta
文章所属单位：A Schindl
摘要：背景：内皮细胞（EC）增殖在组织修复过程中起着关键作用。低强度激光照射已被证明可以加速伤口愈合并改善微血管化。
目标：本研究评估了系统地研究低强度激光照射对人脐静脉内皮细胞（HUVEC）增殖可能的刺激影响。
METHODS：每隔一天用670 nm二极管激光照射HUVEC的亚汇合培养物（强度：10-65 mW cm(-2)，剂量：2-8 J cm(-2)）在6天内。通过在血细胞计数器中计数来定量评估细胞增殖。
结果：我们的数据表明剂量依赖性和强度依赖性激光照射对 HUVEC 细胞增殖的刺激作用。 2 至 8 J cm(-2) 之间的剂量可诱导统计学上显着的细胞增殖。在 8 J cm(-2)、20 和 65 mW cm(-2) 恒定剂量下测试不同强度可诱导最明显的细胞增殖。
结论：低强度激光照射影响EC增殖，从而可能有助于体内血管生成的增加和伤口愈合的加速。